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  • 工業(yè)級(jí)石墨烯(10g)

    工業(yè)級(jí)石墨烯 Industrial-Quality Graphene 制備方法:熱剝離還原 厚度(nm):≤3 BET比表面積(平方米/克):~ 600 電阻率(Ω?cm):0.30

    更新時(shí)間:2024-06-04
    產(chǎn)品價(jià)格:10435.7
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    訪問次數(shù):852
  • 羧基化石墨烯

    羧基化石墨烯 Carboxyl Graphene 直徑:1~5um 厚度:0.8~1.2nm 羧基比例:5% 純度:99%

    更新時(shí)間:2024-06-04
    產(chǎn)品價(jià)格:6475
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    訪問次數(shù):905
  • 單層氧化石墨烯(H法/進(jìn)口)

    單層氧化石墨烯(H法/進(jìn)口) Single Layer Graphene Oxide (H Method) 制備方法:改良的H法 直徑:1~5um 厚度:0.8~1.2nm 單層比:99% 純度:99% 堆積密度:0.44g/cm3 體積密度:為0.26g/cm3

    更新時(shí)間:2024-06-04
    產(chǎn)品價(jià)格:3515.2
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    訪問次數(shù):804
  • 氧化石墨烯(S法/進(jìn)口)-2

    氧化石墨烯(S法/進(jìn)口) Graphene Oxide (S Method) 制備方法:斯托登梅爾方法 外觀為灰綠色粉末 直徑:1~5um 厚度:0.8~1.2nm 比表面積(SSA)5-10平方米/克 單層比:>90% 氧含量:~35 wt% 堆積密度:0.013g/cm3 體積密度:0.008g/cm3 XPS評(píng)估結(jié)果(元素重量比) C1s: 65.71% N1S: 0.5% O1s: 33.

    更新時(shí)間:2024-06-04
    產(chǎn)品價(jià)格:7689.5
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    訪問次數(shù):704
  • 氧化石墨烯(S法/進(jìn)口)

    氧化石墨烯(S法/進(jìn)口) Graphene Oxide (S Method) 制備方法:斯托登梅爾方法 外觀為灰綠色粉末 直徑:1~5um 厚度:0.8~1.2nm 比表面積(SSA)5-10平方米/克 單層比:>90% 氧含量:~35 wt% 堆積密度:0.013g/cm3 體積密度:0.008g/cm3 XPS評(píng)估結(jié)果(元素重量比) C1s: 65.71% N1S: 0.5% O1s: 33.

    更新時(shí)間:2024-06-04
    產(chǎn)品價(jià)格:61516
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    訪問次數(shù):858
  • 氧化石墨烯(美國)

    Semiconductor analog of graphene: Graphene oxide has been synthesized at our R&D facilities using modified reaction Hummer technique. Growth technique emphasizes on minimizing the defect density

    更新時(shí)間:2024-06-04
    產(chǎn)品價(jià)格:6481.15
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    訪問次數(shù):821
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