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CuS 硫化銅晶體

簡(jiǎn)要描述：CuS is a member of metal chalcogenides (see our GaSe and GaTe products). It has a layered structure (lamellar) with weak interlayer coupling. In the bulk form, it is a direct band gap semiconductor

  • 更新時(shí)間：2024-06-02
  • 產(chǎn)品型號(hào)：
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 訪  問(wèn)  量：777

詳細(xì)介紹

CuS is a member of metal chalcogenides (see our GaSe and GaTe products). It has a layered structure (lamellar) with weak interlayer coupling. In the bulk form, it is a direct band gap semiconductor with 1.6 eV band gap. Experimentally, monolayers are yet to be discovered. The size of the sample starts at 3mmx3mm goes up to 7mmx7mm and is highly crystalline. Ideal for cleavage.

Possible applications:
Electronics
Sensors - detectors
Optics
STM – AFM applications
Solar cells
Ultra-low friction studies (tribology)
Materials science and semiconductor research


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